Nickel Silicide Formation Using Excimer Laser Annealing

Autor:	Tous, L., Lerat, J-F, Emeraud, T., Negru, R., Huet, K., Uruena, A., Aleman, M., Russell, R., John, J., Poortmans, J., Mertens, R.
Zdroj:	In Energy Procedia 2012 27:503-509
Databáze:	ScienceDirect
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu