The role of physisorption in the cryogenic etching process of silicon
| Autor: | P. Lefaucheux, Aurélie Girard, T. Tillocher, S. Tahara, Christophe Cardinaud, G. Antoun, Remi Dussart, Kaoru Maekawa, J. Faguet, K. Yatsuda, K. Yamazaki |
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| Přispěvatelé: | Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés (GREMI), Université d'Orléans (UO)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Institut des Matériaux Jean Rouxel (IMN), Université de Nantes - UFR des Sciences et des Techniques (UN UFR ST), Université de Nantes (UN)-Université de Nantes (UN)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Ecole Polytechnique de l'Université de Nantes (EPUN), Université de Nantes (UN)-Université de Nantes (UN), Tokyo Electron (TEL), TEL Technology Center, America, LLC |
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2019 |
| Předmět: |
010302 applied physics
Materials science Physics and Astronomy (miscellaneous) Silicon [SPI.PLASMA]Engineering Sciences [physics]/Plasmas General Engineering General Physics and Astronomy chemistry.chemical_element Nanotechnology 02 engineering and technology 021001 nanoscience & nanotechnology 01 natural sciences [SPI]Engineering Sciences [physics] Physisorption chemistry Etching (microfabrication) [PHYS.PHYS.PHYS-PLASM-PH]Physics [physics]/Physics [physics]/Plasma Physics [physics.plasm-ph] Scientific method 0103 physical sciences 0210 nano-technology ComputingMilieux_MISCELLANEOUS |
| Zdroj: | Japanese Journal of Applied Physics Japanese Journal of Applied Physics, Japan Society of Applied Physics, 2019, 58 (SE), pp.SEEB03. ⟨10.7567/1347-4065/ab1639⟩ |
| ISSN: | 0021-4922 |
| DOI: | 10.7567/1347-4065/ab1639⟩ |
| Popis: | International audience |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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