Měření tloušťky tenské vrstvy SiO2 na kařemíkovém substrátu s využitím spektrální interferometrie v bílém světle = Measurement of the thickness of SiO2 thin film on the silicon substrate using white-light spectral interferometry /

Hlavní autor:
Chlebus, Radek ( Autor )
Další autoři:
Hlubina, Petr ( Autor )
Typ dokumentu: Článek
Jazyk: čeština
ISSN: 0447-6441
Zdroj: Jemná mechanika a optika : věda - výzkum - technologie - realizace : technický oborový časopis: Roč. 52, č. 1 (2007), s. 13-16.
Předmět:
měření
tenké vrstvy
křemen
interferometrie
články
Externí odkaz: Získat plný text

Podobné jednotky