Charakterizace struktur připravených selektivním mokrým leptáním křemíku
| Autor: | Metelka, Ondřej |
|---|---|
| Jazyk: | čeština |
| Rok vydání: | 2014 |
| Předmět: |
KOH
hydroxid draselný leptací maska FTIR EBL skenovací elektronový mikroskop etching mask anizotropní mokré leptání Silicon electron beam litography potassium hydroxide surface plasmon polariton anisotropic wet etching plazmonový povrchový polariton effective refractive index Křemík scanning electron microscope efektivní index lomu SEM elektronová litografie |
| Druh dokumentu: | masterThesis |
| Popis: | The task of master’s thesis was to perform optimalization process for preparing metal etching mask by electron beam litography and subsequent selective wet ething of silicon with crystalographic orientation (100). Further characterization of etched surface and fabricated structures was performed. In particular, attention was given to the morphology demonstrated by scanning electron microscopy and study changes of the optical properties of gold plasmonic antennas due to their undercut. |
| Databáze: | Networked Digital Library of Theses & Dissertations |
| Externí odkaz: |
|