Optimalizace depozičních parametrů za účelem vytvoření fotokatalytických titanoxidových vrstev metodou PECVD

Autor:	PEKÁREK, Michal
Jazyk:	čeština
Rok vydání:	2013
Předmět:	titanium oxide plazma TiO2 nízkotlaká depozice oxid titaničitý PECVD surface treatment fotokatalytické vrstvy photocatalytic thin films plasma reactor plazmový výboj povrchová úprava photocatalysis plasma discharge fotokatalýza plasma plazmový reaktor low-pressure deposition
Druh dokumentu:	masterThesis
Popis:	This thesis presents Photocatalytic TiOx layers created by own PECVD reactor assembled in the building of Department of Applied Physics and Technics. Parameters of depositions were optimalized as well as the PECVD reactor itself. Final layers are compared to layers made by Degussa P25. As a result based on the included measurements, this thesis tries to answer the question whether PECVD is the suitable method for depositions of photocatalytic layers.
Databáze:	Networked Digital Library of Theses & Dissertations
Externí odkaz:	http://www.nusl.cz/ntk/nusl-153375 Zobrazit plný text záznamu