A Study on Plasma Process-Induced Damage during Fabrication of Si Devices and Methodology for Optical Measurement
Autor: | Matsuda, Asahiko |
---|---|
Jazyk: | angličtina |
Rok vydání: | 2013 |
Předmět: | |
Druh dokumentu: | Doctoral Thesis |
DOI: | 10.14989/doctor.k17788 |
Popis: | 0048 甲第17788号 工博第3767号 新制||工||1576(附属図書館) 30595 学位規則第4条第1項該当 Doctor of Philosophy (Engineering) Kyoto University DFAM |
Databáze: | Networked Digital Library of Theses & Dissertations |
Externí odkaz: |