A Study on Plasma Process-Induced Damage during Fabrication of Si Devices and Methodology for Optical Measurement

Autor: Matsuda, Asahiko
Jazyk: angličtina
Rok vydání: 2013
Předmět:
Druh dokumentu: Doctoral Thesis
DOI: 10.14989/doctor.k17788
Popis: 0048
甲第17788号
工博第3767号
新制||工||1576(附属図書館)
30595
学位規則第4条第1項該当
Doctor of Philosophy (Engineering)
Kyoto University
DFAM
Databáze: Networked Digital Library of Theses & Dissertations