A study of wear-out and breakdown phenomena in thin silicon dioxide films and the evaluation techniques
| Autor: | Eriguchi, Koji |
|---|---|
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2004 |
| Předmět: | |
| Druh dokumentu: | DAM<br />Thesis or Dissertation |
| Popis: | Kyoto University (京都大学) 0048 乙第11362号 論工博第3764号 新制||工||1300(附属図書館) UT51-2004-C110 学位規則第4条第2項該当 |
| Databáze: | Networked Digital Library of Theses & Dissertations |
| Externí odkaz: |
|