Investigations of electromigration induced defects of Al-based interconnect

Autor:	Chen, Yi-Liang, 陳怡良
Rok vydání:	1996
Druh dokumentu:	學位論文 ; thesis
Popis:	84
Databáze:	Networked Digital Library of Theses & Dissertations
Externí odkaz:	http://ndltd.ncl.edu.tw/handle/00300945452851018447 Zobrazit plný text záznamu