Autor:	後藤, 俊夫, 河野, 明廣, 堀, 勝, 伊藤, 昌文
Jazyk:	japonština
Rok vydání:	1999
Předmět:	Absorption spectroscopy Amorphous Silicon CVD Chemical vapor deposition Diamond FT-IR FT-IRRAS Plasma Poly crystalline Silicon Process Radical アモルファスシリコンダイヤモンドプラズマプロセスラジカル吸収分光法多結晶シリコン赤外半導体レ-ザ吸収分光法
Druh dokumentu:	Research Paper
Popis:	科学研究費補助金研究種目:基盤研究(A)(2) 課題番号:08405005 研究代表者:後藤俊夫研究期間:1996-1998年度
Databáze:	Networked Digital Library of Theses & Dissertations
Externí odkaz:	http://hdl.handle.net/2237/13079 Zobrazit plný text záznamu