Silicon Device Scaling to the Sub-10-nm Regime

Autor:	Ieong, Meikei, Doris, Bruce, Kedzierski, Jakub, Rim, Ken, Yang, Min
Zdroj:	Science, 2004 Dec . 306(5704), 2057-2060.
Databáze:	JSTOR Journals
Externí odkaz:	https://www.jstor.org/stable/3839710 Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.