Low-Temperature Thin-Film Deposition and Crystallization

Autor:	Park, Sangmoon, Clark, Benjamin L., Keszler, Douglas A., Bender, Jeffrey P., Wager, John F., Reynolds, Thomas A., Herman, Gregory S.
Zdroj:	Science, 2002 Jul 01. 297(5578), 65-65.
Databáze:	JSTOR Journals
Externí odkaz:	https://www.jstor.org/stable/3077216 Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.