Growth of epitaxial Pr 2O 3 layers on Si(1 1 1)
Autor: | Jeutter, N.M., Hennemeyer, M., Stark, R., Stierle, A., Moritz, W. |
---|---|
Zdroj: | In Materials Science in Semiconductor Processing 2006 9(6):1079-1083 |
Databáze: | ScienceDirect |
Externí odkaz: |
Autor: | Jeutter, N.M., Hennemeyer, M., Stark, R., Stierle, A., Moritz, W. |
---|---|
Zdroj: | In Materials Science in Semiconductor Processing 2006 9(6):1079-1083 |
Databáze: | ScienceDirect |
Externí odkaz: |