Impact of monolayer engineering on ferroelectricity of sub-5 nm Hf0.5Zr0.5O2 thin films
Autor: | Wang, Ting-Yun, Mo, Chi-Lin, Chou, Chun-Yi, Chuang, Chun-Ho, Chen, Miin-Jang |
---|---|
Zdroj: | In Acta Materialia 15 May 2023 250 |
Databáze: | ScienceDirect |
Externí odkaz: |
Pro tento záznam nejsou dostupné žádné jednotky.