Oxide charges induced by plasma activation for wafer bonding

Autor:	Schjølberg-Henriksen, K., Visser Taklo, M.M., Hanneborg, A., Jensen, G.U.
Zdroj:	In Sensors & Actuators: A. Physical 2002 102(1):99-105
Databáze:	ScienceDirect
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Full Text from ScienceDirect