Large temperature range model for the atmospheric pressure chemical vapor deposition of silicon dioxide films on thermosensitive substrates

Autor:	Topka, Konstantina Christina, Chliavoras, George Alexander, Senocq, François, Vergnes, Hugues, Samelor, Diane, Sadowski, Daniel, Vahlas, Constantin, Caussat, Brigitte
Zdroj:	In Chemical Engineering Research and Design September 2020 161:146-158
Databáze:	ScienceDirect
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Full Text from ScienceDirect Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.