Inter-diffusion of cobalt and silicon through an ultra thin aluminum oxide layer

Autor: El Asri, T., Raissi, M., Vizzini, S., Maachi, A. El, Ameziane, E.L., d’Avitaya, F. Arnaud, Lazzari, J.-L., Coudreau, C., Oughaddou, H., Aufray, B., Kaddouri, A.
Zdroj: In Applied Surface Science 2010 256(9):2731-2734
Databáze: ScienceDirect