Inter-diffusion of cobalt and silicon through an ultra thin aluminum oxide layer
Autor: | El Asri, T., Raissi, M., Vizzini, S., Maachi, A. El, Ameziane, E.L., d’Avitaya, F. Arnaud, Lazzari, J.-L., Coudreau, C., Oughaddou, H., Aufray, B., Kaddouri, A. |
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Zdroj: | In Applied Surface Science 2010 256(9):2731-2734 |
Databáze: | ScienceDirect |
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