Novel k-restoring scheme for damaged ultra-low-k materials

Autor:	Böhm, O., Leitsmann, R., Plänitz, Ph., Oszinda, T., Schaller, M., Schreiber, M.
Zdroj:	In Microelectronic Engineering December 2013 112:63-66
Databáze:	ScienceDirect
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Full Text from ScienceDirect