Back channel etch chemistry of advanced a-Si:H TFTs

Autor:	Kuo, A., Won, T.K., Kanicki, J.
Zdroj:	In Microelectronic Engineering March 2011 88(3):207-212
Databáze:	ScienceDirect
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Full Text from ScienceDirect