EBL Bi-layer resist scheme for CdTe/Si submicron structures for lift-off processing

Autor:	Abellán, M., Anguita, J., Sochinskii, N.V.
Zdroj:	In Microelectronic Engineering 2007 84(5):1117-1119
Databáze:	ScienceDirect
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Full Text from ScienceDirect