Ion projection lithography below 70 nm: tool performance and resist process
| Autor: | Hirscher, S. ∗, Kümmel, M., Kirch, O., Domke, W.-D., Wolter, A., Käsmaier, R., Buschbeck, H., Cekan, E., Chalupka, A., Chylik, A., Eder, S., Horner, C., Löschner, H., Nowak, R., Stengl, G., Windischbauer, T., Zeininger, M. |
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| Zdroj: | In Microelectronic Engineering 2002 61:301-307 |
| Databáze: | ScienceDirect |
| Externí odkaz: |
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