Thermal stability of amorphous Ti 3Si 1O 8 thin films

Autor:	Giauque, P.H. *, Cherry, H.B., Nicolet, M.-A.
Zdroj:	In Microelectronic Engineering 2001 55(1):183-188
Databáze:	ScienceDirect
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Full Text from ScienceDirect