Optimum parameters to etch Nd:YAG crystals with orthophosphoric acid H 3PO 4

Autor:	Gerber, M *, Graf, Th
Zdroj:	In Optics and Laser Technology 2001 33(7):449-453
Databáze:	ScienceDirect
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Full Text from ScienceDirect