Growth and studies of Si-doped AlN layers

Autor: Thapa, S.B., Hertkorn, J., Scholz, F., Prinz, G.M., Leute, R.A.R., Feneberg, M., Thonke, K., Sauer, R., Klein, O., Biskupek, J., Kaiser, U.
Zdroj: In Journal of Crystal Growth 2008 310(23):4939-4941
Databáze: ScienceDirect