Volatile CVD precursor for Ni film: cyclopentadienylallylnickel
Autor: | Kada, T. *, Ishikawa, M., Machida, H., Ogura, A., Ohshita, Y., Soai, K. |
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Zdroj: | In Journal of Crystal Growth 2005 275(1):e1115-e1119 |
Databáze: | ScienceDirect |
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Autor: | Kada, T. *, Ishikawa, M., Machida, H., Ogura, A., Ohshita, Y., Soai, K. |
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Zdroj: | In Journal of Crystal Growth 2005 275(1):e1115-e1119 |
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