Influence of deposition temperature on amorphous structure of PECVD deposited a-Si:H thin films

Autor: Müllerová Jarmila, Fischer Marinus, Netrvalová Marie, Zeman Miro, Šutta Pavel
Jazyk: angličtina
Rok vydání: 2011
Předmět:
Zdroj: Open Physics, Vol 9, Iss 5, Pp 1301-1308 (2011)
Druh dokumentu: article
ISSN: 2391-5471
DOI: 10.2478/s11534-011-0041-4
Databáze: Directory of Open Access Journals