Superfícies fotocatalíticas de titânia em substratos cerâmicos. Parte II: substratos, processos de deposição e tratamento térmico
| Autor: | J. Feltrin, M. N. Sartor, A. De Noni Jr, A. M. Bernardin, D. Hotza, J. A. Labrincha |
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| Jazyk: | English<br />Portuguese |
| Rok vydání: | 2014 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | Cerâmica, Vol 60, Iss 353, Pp 1-9 (2014) |
| Druh dokumentu: | article |
| ISSN: | 1678-4553 0366-6913 |
| DOI: | 10.1590/S0366-69132014000100002 |
| Popis: | Este trabalho corresponde à segunda parte da revisão das superfícies fotocatalíticas de titânia em substratos cerâmicos. Nesta parte, são descritos os principais fatores que influenciam na obtenção da fase anatase como: substrato, processos de deposição e tratamento térmico. Nos substratos que apresentam superfícies ásperas há uma maior eficiência fotocatalítica devido a sua maior área de contato. Os processos de deposição mais comumente utilizados em superfícies cerâmicas são: magnetron sputtering, dip coating, spin coating, serigrafia plana, pulverização, incavografia e impressão digital. Com relação ao tratamento térmico do dióxido de titânio, em todas as temperaturas e pressões a fase rutilo é a mais estável. A fase anatase é metaestável atingindo a estabilidade apenas em temperaturas baixas. A transformação de fase anatase para rutilo é gradual não apresentando uma temperatura definida. |
| Databáze: | Directory of Open Access Journals |
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