Variance Reduction during the Fabrication of Sub-20 nm Si Cylindrical Nanopillars for Vertical Gate-All-Around Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistors
| Autor: | Shujun Ye, Kikuo Yamabe, Tetsuo Endoh |
|---|---|
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2019 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | ACS Omega, Vol 4, Iss 25, Pp 21115-21121 (2019) |
| Druh dokumentu: | article |
| ISSN: | 2470-1343 |
| DOI: | 10.1021/acsomega.9b02520 |
| Databáze: | Directory of Open Access Journals |
| Externí odkaz: |
|