Application of Plasmon-Induced Lithography for Creation of a Residual-Free Pattern and Simple Surface Modifications
| Autor: | Roman Elashnikov, Jaromír Háša, Lukáš Děkanovský, Jaroslav Otta, Přemysl Fitl, Václav Švorčík, Oleksiy Lyutakov |
|---|---|
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2019 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | ACS Omega, Vol 4, Iss 3, Pp 5534-5539 (2019) |
| Druh dokumentu: | article |
| ISSN: | 2470-1343 |
| DOI: | 10.1021/acsomega.8b03039 |
| Databáze: | Directory of Open Access Journals |
| Externí odkaz: |
|