Métodos empleados en el análisis de espectroscopía óptica de emisión: una revisión

Autor:	D M Devia, L. V Rodriguez-Restrepo, E Restrepo-Parra
Jazyk:	English<br />Spanish; Castilian
Rok vydání:	2015
Předmět:	OES plasma parameters elemental determination line intensity broadening shifting Technology Science Science (General) Q1-390
Zdroj:	Ingeniería y Ciencia, Vol 11, Iss 21 (2015)
Druh dokumentu:	article
ISSN:	1794-9165 2256-4314
DOI:	10.17230/ingciencia.11.21.12
Popis:	En este trabajo se presentan diferentes métodos empleados para el análisis de espectros ópticos de emisión. El propósito es calcular la temperatura de excitación (Texc), temperatura electrónica (Te) y densidad electrónica (ne) empleando diversas técnicas usadas en el crecimiento de películas delgadas. Algunas de estas técnicas incluyen magnetron sputtering y descargas n arco. Inicialmente, se describirán algunos principios fundamentales que soportan la técnica de Espectroscopía Óptica de Emisión (EOE); posteriormente, se considerarán algunas reglas que deben considerarse para el análisis de espectros con el fin de evitar ambigüedades. Finalmente, se presentarán algunos d los métodos espectroscópicos más determinar las propiedades físicas de plasmas. PACS: 52.25.Dg, 31.15.V
Databáze:	Directory of Open Access Journals
Externí odkaz:	https://doaj.org/article/aa6eb06c965245ed8c548c53a43dca3b Zobrazit plný text záznamu View record in DOAJ Plný text ve formátu PDF