Evolución de la cristalización y la morfología superficial de películas delgadas de Cu en substratos de SiO2/Si tratadas térmicamente
| Autor: | Daniel Hurtado Salinas, Angel Bustamante Domínguez, Lizbet León Felix, Luis De los Santos Valladares, Yutaka Majima |
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| Jazyk: | English<br />Spanish; Castilian |
| Rok vydání: | 2010 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | Revista de Investigación de Física, Vol 13, Iss 01 (2010) |
| Druh dokumentu: | article |
| ISSN: | 1605-7724 1728-2977 |
| DOI: | 10.15381/rif.v13i01.8849 |
| Popis: | En este trabajo se estudia la morfología y cristalización de la superficie de películas delgadas de Cu (expuestos al medio ambiente) sobre sustratos de SiO2/Si. Las muestras fueron sometidas a tratamientos térmicos mediante el uso de un horno tubular, en un rango de temperaturas comprendidas entre 250ºC y 1000ºC durante 3 horas para luego ser enfriadas a razón de 1.4ºC/min. La cristalización de las muestras luego de los tratamientos térmicos fueron caracterizadas mediante difracción de Rayos X (DRX), mientras que la morfología de la superficie se analizo usando Microscopia Electrónica de Barrido (MEB). Los resultados obtenidos fueron analizados y encontramos que la temperatura de recocido mas optima que mejor la dirección (111) en la pelicula de cobre y que permite conocer la dinámica de los átomos de la superficie del sistema Cu/SiO2 con respecto a la temperatura, está comprendida en el rango de 400 y 500ºC. Durante todo el proceso de recocido las superficies de las muestras se oxidan y notamos la presencia de siliciuros de cobre |
| Databáze: | Directory of Open Access Journals |
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