Author Correction: Effect of bias potential and dimension on electrochemical migration of capacitors for implantable devices
| Autor: | Shiyao Du, Feng Li, Flemming Bjerg Grumsen, Rajan Ambat, Ao Tang, Ying Li |
|---|---|
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2024 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | npj Materials Degradation, Vol 8, Iss 1, Pp 1-1 (2024) |
| Druh dokumentu: | article |
| ISSN: | 2397-2106 |
| DOI: | 10.1038/s41529-024-00509-y |
| Databáze: | Directory of Open Access Journals |
| Externí odkaz: |
|
Full text from SpringerLink