| Autor: |
Cristóbal Lárez, Olga P Márquez, Jairo Márquez |
| Jazyk: |
English<br />Spanish; Castilian |
| Předmět: |
|
| Zdroj: |
Revista Técnica de la Facultad de Ingeniería, Vol 29, Iss 1, Pp 3-13 |
| Druh dokumentu: |
article |
| ISSN: |
0254-0770 |
| Popis: |
La oxidación electroquímica del ácido salicílico es un proceso altamente dependiente de la acidez del medio electrolítico, por la posibilidad de la coexistencia de las especies protonada, neutra y los aniones carboxilato y fenóxido. El predominio de una de estas especies, a un pH determinado, justificaría la variación del potencial de oxidación con la acidez. En medio básico ocurre la oxidación de las especies carboxilato y fenóxido. Para valores de pH débilmente ácidos o neutros, el producto principal de la reacción es una película muy delgada de alta resistividad inicial y lento crecimiento. El análisis de esta película por FTIR de reflectancia ex situ sugiere la presencia de segmentos de anillos aromáticos enlazados por uniones tipo C -O -C y por segmentos de anillos aromáticos enlazados por uniones tipo C -C. Los espectros de FTIR in situ muestran que los enlaces C -C crecen lentamente durante el crecimiento de la película. Se ha calculado la resistividad inicial de la película usando el modelo propuesto por Scharifker, encontrándose valores entre (1,6-2,4) x10(11) Ω.cm-1. |
| Databáze: |
Directory of Open Access Journals |
| Externí odkaz: |
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