Erratum: 'Mechanism of the performance improvement of TiO2-x-based field-effect transistor using SiO2 as gate insulator' [AIP Advances 1, 032167 (2011)]

Autor: Ni Zhong, Hisashi Shima, Hiro Akinaga
Jazyk: angličtina
Rok vydání: 2011
Předmět:
Zdroj: AIP Advances, Vol 1, Iss 4, Pp 049902-049902-1 (2011)
Druh dokumentu: article
ISSN: 2158-3226
DOI: 10.1063/1.3660334
Databáze: Directory of Open Access Journals