Erratum: 'Mechanism of the performance improvement of TiO2-x-based field-effect transistor using SiO2 as gate insulator' [AIP Advances 1, 032167 (2011)]
Autor: | Ni Zhong, Hisashi Shima, Hiro Akinaga |
---|---|
Jazyk: | angličtina |
Rok vydání: | 2011 |
Předmět: | |
Zdroj: | AIP Advances, Vol 1, Iss 4, Pp 049902-049902-1 (2011) |
Druh dokumentu: | article |
ISSN: | 2158-3226 |
DOI: | 10.1063/1.3660334 |
Databáze: | Directory of Open Access Journals |
Externí odkaz: |