Development of strategies for laser cleaning of baking plates at different working distances
| Autor: | Golaszewski, Paul |
|---|---|
| Jazyk: | němčina |
| Rok vydání: | 2020 |
| Předmět: |
stimulierte Emission
Laserreinigung Stereomikroskop Laser laboratory Bildauswertung stimulated emission Waffle Oven Fiber Laser Metallurgical laboratory Defocus dynamical scaling Arbeitsabstand Waffelofen Image analysis Defokus Laserstrahlung Cleaning device Laser technology Reflected light microscope Reinigungsvorrichtung Microscopy chemical cleaning process Laser cleaning Baking plate cleaning Faserlaser Working distance Auflichtmikroskop Mikroskopie Mikroskopiebilder Bühler Lasertechnik Cold - Jet (dry ice cleaning) Stereomicroscope dynamische Skalierung Laserlabor Focus position correction Backplattenreinigung Microscope images Leobendorf Fokuslagenkorrektur Metallurgielabor chemische Reinigung Cold – Jet (Trockeneisreinigung) Laser beams |
| Popis: | Diese Arbeit beschäftigt sich mit der Entwicklung von Strategien zur Laserreinigung für Bühler-Backplatten. Die Waffelöfen werden mit einer selbst entwickelten Laserreinigungsanlage gereinigt. Aufgrund der Kontur der zu reinigenden Backplatten variiert hierbei der Abstand der Bearbeitungsoptik zur Backfläche. Der unterschiedliche Arbeitsabstand erfordert eine Anpassung der Laserparameter, welche im Zuge dieser Arbeit erforscht werden. Derzeit wird die Fokuslage linear angepasst, dieses System ist jedoch neuen Erkenntnissen zufolge nicht linear und die neuen Werte werden durch lineare Interpolation ermittelt. Ziel ist es, eine neue Strategie, durch welche bei jedem Arbeitsabstand ein gleichbleibendes Reinigungsergebnis erzielt werden kann, zu entwickeln. Um die optimalen Einstellungen zu finden, werden Laborversuche durchgeführt und anschließend die gewonnenen Ergebnisse interpretiert. Die große Bedeutung dieser Arbeit ergibt sich durch die vielen Vorteile des Reinigens von Backplatten mittels Lasers gegenüber den bisher verwendeten Reinigungsmethoden. Anhand der erforschten Lösungsansätze wird der Zusammenhang zwischen Arbeitsabstand und den ermittelten Stellparametern dargestellt. This thesis deals with the development of strategies for laser cleaning of Bühler baking plates. The wafer ovens are cleaned with an in-house developed laser cleaning system. Due to the contour of the baking plates to be cleaned, the distance between the processing optics and the baking surface varies. The different working distance requires an adjustment of the laser parameters, which is investigated in the scope of this work. Currently the focus position is adjusted linearly. However, this system is not linear and according to new findings the values are determined by linear interpolation. The aim is to develop a new strategy by which a constant cleaning result can be achieved at any working distance. To find the optimal settings, laboratory tests are carried out and the results are interpreted afterwards. The importance of this work results from the many advantages laser cleaning of baking plates provides in comparison with the previously used cleaning methods. The correlation between the working distance and the resulting control parameters is shown based on the researched solution strategies. |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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