Development of New Technique for High-Energy Secondary-Electron Measurements in Plasma Immersion Ion Implantation
Autor: | Nakamura, K., Mändl, S., Brutscher, J., Günzel, R., Möller, W. |
---|---|
Jazyk: | angličtina |
Rok vydání: | 1997 |
Zdroj: | Plasma Sources Science & Technolgy 6 (1997) pp. 86-90 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |