Development of New Technique for High-Energy Secondary-Electron Measurements in Plasma Immersion Ion Implantation

Autor: Nakamura, K., Mändl, S., Brutscher, J., Günzel, R., Möller, W.
Jazyk: angličtina
Rok vydání: 1997
Zdroj: Plasma Sources Science & Technolgy 6 (1997) pp. 86-90
Databáze: OpenAIRE