Структура и свойства пленок оксида циркония, легированных оксидом иттрия, полученных методом лазерного осаждения в вакууме
| Autor: | Bosak, Nikolai Aleksandrovich, Chumakov, Aleksandr Nikitich, Shevchenok, Aleksandr Arkadevich, Baran, Liudmila Vladimirovna, Malutina-Bronskaya, Viktoriia Vladimirovna, Karoza, Anatolii Grigorevich, Ivanov, Aleksei Aleksandrovich |
|---|---|
| Jazyk: | ruština |
| Rok vydání: | 2020 |
| Předmět: |
passive shutter
пассивный затвор the structure of thin films thin films высокочастотное лазерное воздействие вольт-фарадная характеристика high-frequency laser effect тонкие пленки структура тонких пленок volt-ampere characteristic спектр пропускания capacitance-voltage characteristic вольт-амперная характеристика |
| Popis: | Проведены исследования тонких пленок, осажденных в вакууме (2*10-2 мм рт. ст.) на кремниевую и стеклянную подложки при многоимпульсном высокочастотном (10-15 кГц) лазерном воздействии (плотность мощности лазерного излучения 100 МВт/см2 и расстояние от мишени до подложки 40 мм), на керамику из оксида циркония ZrO2, легированную оксидом иттрия 5 % Y2O3. The thin films deposited in vacuum (2*10-2 mm Hg) on the silicon and glass substrates under the multi-pulse high-frequency (10-15 kHz) laser exposure (laser radiation power density 100 MW/cm2 and the distance from the target to the substrate 40 mm) for zirconium oxide ZrO2 ceramics doped with yttrium oxide 5 % Y2O3. |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
|