Application de la gravure plasma à la réalisation de composants micro-nanoélectroniques au sein de la centrale technologique de l’IEMN
| Autor: | Pageau, Arnaud, Legrand, Christiane, Curley, Garrett, Yarekha, Dmitri |
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| Přispěvatelé: | Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 (IEMN), Centrale Lille-Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN)-Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (UVHC)-Université de Lille-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Polytechnique Hauts-de-France (UPHF), Centrale de Micro Nano Fabrication - IEMN (CMNF - IEMN), Centrale Lille-Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN)-Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (UVHC)-Université de Lille-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Polytechnique Hauts-de-France (UPHF)-Centrale Lille-Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN)-Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (UVHC)-Université de Lille-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Polytechnique Hauts-de-France (UPHF), Renatech Network |
| Jazyk: | francouzština |
| Rok vydání: | 2016 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | JNMO 2016 JNMO 2016, May 2016, Les Issambres, France |
| Popis: | National audience |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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