Comparison of BULK and Ultra-Thin Double Gate SOI MOSFETs for the 65 nm Technology Node: a Monte-Carlo Study
Autor: | BRACCIOLI, MARCO, EMINENTE, SIMONE, FIEGNA, CLAUDIO, P. Palestri, D. Esseni |
---|---|
Přispěvatelé: | M. Braccioli, S.Eminente, P.Palestri, D.Esseni, C.Fiegna |
Jazyk: | angličtina |
Rok vydání: | 2005 |
Předmět: | |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |