Состав приповерхностных слоев структур Ti/Si и Cо/Si, полученных ионно-ассистируемым осаждением в вакууме

Jazyk:	ruština
Rok vydání:	2022
Předmět:	метод ядерных реакций ионы гелия ксеноновый маркер осаждение покрытий ионно-ассистируемое осаждение резерфордовское обратное рассеяние
Popis:	В работе рассмотрен состав приповерхностных слоев структур Ti/Si и Cо/Si, полученных ионно-ассистируемым осаждением в вакууме.
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______3992::1c5a1d3a9a81258f13cb868e0455de91 https://elib.belstu.by/handle/123456789/47988 Zobrazit plný text záznamu