Controlling Uniformity of RRAM Characteristics via the Forming Process

Autor:	Kalantarian, A., Bersuker, G., Gilmer, D. C., Veksler, D., Butcher, B., Padovani, Andrea, Pirrotta, Onofrio, Larcher, Luca, Kirsch, P., Nishi, Y.
Jazyk:	angličtina
Rok vydání:	2012
Předmět:	RRAM HfO2 forming constant voltage uniformity low power overshoot parasitic capacitance
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______3674::811275a3763a1b0019aa402e17933f2f https://hdl.handle.net/11380/739465 Zobrazit plný text záznamu