Plasma etching of III-V materials for photo transducers fabrication

Autor:	Breton, Benjamin, Bidaud, Thomas, de Lafontaine, Mathieu, Jaouad, Abdelatif, Masson, Denis, Fafard, Simon, Pargon, Erwine, Petit-Etienne, Camille, Hamon, Gwenaelle, Darnon, Maxime
Přispěvatelé:	Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM ), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Grenoble Alpes (UGA), Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke] (3IT), Université de Sherbrooke (UdeS), Laboratoire Nanotechnologies et Nanosystèmes [Sherbrooke] (LN2), Université de Sherbrooke (UdeS)-École Centrale de Lyon (ECL), Université de Lyon-Université de Lyon-École Supérieure de Chimie Physique Électronique de Lyon (CPE)-Institut National des Sciences Appliquées de Lyon (INSA Lyon), Université de Lyon-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Grenoble Alpes (UGA), Broadcom Semiconductors ULC
Jazyk:	angličtina
Rok vydání:	2022
Předmět:	[SPI.PLASMA]Engineering Sciences [physics]/Plasmas [SPI.NANO]Engineering Sciences [physics]/Micro and nanotechnologies/Microelectronics
Zdroj:	Plasma Etch and Strip in Microelectronics Plasma Etch and Strip in Microelectronics, Sep 2022, Leuven, Belgium
Popis:	International audience
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______3515::8dd8f475f3350e8dfac5ad1e876e38ab https://hal.science/hal-03831333 Zobrazit plný text záznamu