Моделирование течения нейтральной компоненты ВЧ-плазмы в асимметричной вакуумной камере в диапазонах чисел Кнудсена 0,3 ≤ Kn ≤ 3 для несущего газа

Jazyk:	ruština
Rok vydání:	2015
Předmět:	аргон-силановая плазма тлеющий разряд высокочастотный разряд осаждение тонких пленок тонкие пленки аморфного кремния плазменные струи математическое моделирование статистическое моделирование
Zdroj:	Вестник Омского университета.
ISSN:	1812-3996
Popis:	Описана математическая модель струйного течения ВЧ-плазмы при давлении 0,1– 10 Па при числах Кнудсена 0,3 ≤ Kn ≤ 3 для несущего газа. Модель построена на основе статистического подхода для нейтральной компоненты ВЧ-плазмы c учетом влияния распределенного по объему источника тепла. Приведены результаты расчета течения нейтральной компоненты ВЧ-плазмы при наличии в струе образца в первом приближении с учетом распределенного по объему источника тепла. This paper describes a mathematical model of the RF plasma flow at a pressure of 0,1–10 Pa at Knudsen 0,3 ≤ Kn ≤ 3 forthe carrier gas. The model is based on the statistical approach of the neutral component of the RF plasma. The results of calculation of the plasma flow with a specimen presence in first approximation is described.
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______2806::9f841d91adc23c9a4138fa2660ad40c2 http://cyberleninka.ru/article_covers/15830215.png Zobrazit plný text záznamu