Влияние внешних параметров осаждения на структурные изменения в тонких пленках аморфного кремния
| Jazyk: | ruština |
|---|---|
| Rok vydání: | 2015 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | Вестник Омского университета. |
| ISSN: | 1812-3996 |
| Popis: | Изучено влияние параметров осаждения на оптические свойства тонких пленок аморфного кремния методом рамановской спектроскопии. Исследования структурной эволюции пленок показывают, что за пределами рабочего давления в 200 мТорр наблюдается аморфно-нанокристаллический переход с увеличением кристаллической фазы. The influence of deposition parameters on the optical properties of thin films of amorphous silicon by the method of raman spectroscopy. The study of structural evolution of the films show that outside a working pressure of 200 mTorr observed amorphous-nanocrystalline transition, with an increase of the crystalline phase. |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
|
