Технология получения электропроводящих пленок Ito высокой оптической прозрачности с низким значением величины удельного поверхностного сопротивления
| Jazyk: | ruština |
|---|---|
| Rok vydání: | 2012 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | Доклады Томского государственного университета систем управления и радиоэлектроники. |
| ISSN: | 1818-0442 |
| Popis: | Разработан способ получения прозрачных электропроводящих пленок ITO, предназначенных для использования в светодиодах, а также в качестве омических контактов к солнечным элементам. При установленном технологическом режиме напыления и отжига удельное поверхностное сопротивление полученных оксидных пленок составило 50 Ом/, а их коэффициент прозрачности около 90% при толщине пленок 250 нм. Найденные условия получения пленок отмечены низким воздействием теплового удара как на пленку, так и на подложку, что предотвращает их растрескивание. We developed the way of reception of transparent electroconducting ITO films which are intended for use in light-emitting diodes, and as ohmic contacts to solar cells. In the discovered technological mode of a spraying and bakeout, per-unit-area resistance of the oxide films came up to 50 Om/, and their transparency factor is about 90% at film thickness of 250 nanometers. The conditions of film reception are distinguished by a low influence of a heatstroke both on a film, and on a substrate that prevents their cracking. |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
|