| Popis: |
Магістерська дисертація: 81 сторінка, 41 рисунків, 12 таблиць, 38 літературних джерел. Об’єкт досліджень:структурно-фазові перетворення в наношарових композиціях Cu/Cr, Ni/Cr, Ni/Cu/Cr за умов вакуумного термічного відпалу та з додатковою йонно-плазмовою обробкою. Мета роботи: дослідження особливостей впливу попередньої йонно-плазмової обробки на структурно-фазові перетворення у тонких плівках Cu/Cr, Ni/Cr, Ni/Cu/Crза умов термічного відпалу. Методи дослідження: мас-спектрометрія вторинних йонів, трансмісійна електронна мікроскопія, in-situ високоенергетична електронна дифракція. Досліджено особливості формування структури та фазового складу систем Cu/Cr, Ni/Cr та Ni/Cu/Cr при відпалі у вакуумі у широкому температурному інтервалі. Тонкоплівкові композиції були одержані шляхом термічного випаровування у вакуумі і, в подальшому, піддавалися йонно-плазмовій та термічній обробці до температур 690 °C. Після обробки плівки досліджено методами мас-спектрометрії вторинних йонів, трансмісійною електронною мікроскопією, in-situ високоенергетичною електронною дифракцією. Зафіксовано розвиток окисно-відновних процесів, які ефективно контролюються шляхом використання додаткового плазмового оброблення плівок. Йонний низькоенергетичний вплив стабілізує структуру досліджуваних систем шляхом гальмування процесів рекристалізації. Master thesis: 81 pages, 41 figure, 12 tables, 38 references. The object of research is structural-phase transformations in nanolayer compositions Cu/Cr, Ni/Cr, Ni/Cu/Cr under conditions of vacuum thermal annealing and with additional ion-plasma action. The purpose is to study the peculiarities of the influence of preliminary ion plasma action on structural-phase transformations in thin films Cu/Cr, Ni/Cr, Ni/Cu/Cr under conditions of thermal annealing. Research methods: secondary-ion mass spectrometry, transmission electron microscopy, in-situ high-energy electron diffraction. The peculiarities of the formation of the structure and phase composition of the Cu/Cr, Ni/Cr and Ni/Cu/Cr systems during annealing in vacuum in a wide temperature range have been studied. The thin film compositions were obtained by thermal evaporation in vacuum and subsequently subjected to ion-plasma and heat treatment to temperatures of 690 °C. After processing the film, it was investigated by secondary-ion mass spectrometry, transmission electron microscopy, in-situ high-energy electron diffraction. The development of redox processes, which are effectively controlled by the use of additional plasma treatment of films, has been recorded. Ionic low-energy effect stabilizes the structure of the studied systems by inhibiting recrystallization processes. |
