| Autor: |
Batalov, R. I., Nuzhdin, V. I., Valeev, V. F., Bizyaev, D. A., Bukharaev, A. A., Voro ’ev, V. V., Osin, Yu. N., Ivlev, G. D., Stepanov, A. L. |
| Jazyk: |
ruština |
| Rok vydání: |
2017 |
| Popis: |
В данной работе впервые изучено влияние импульсного лазерного отжига (ИЛО) излучением рубинового лазера на слои монокристаллического Si, имплантированного ионами Ge+и Ag+, с целью создания кристаллического композитного плазмонного материала Ag:GeSi. Изучена трансформация структуры слоя и его оптического отражения в зависимости от режимов отжига. In this work for the first time the effect of pulsed laser annealing by ruby laser radiation to monocrystalline Si layers implanted by Ge+and Ag+ ions in order to produce crystalline composite plasmonic Ag:GeSi material is studied. The transformation of layer structure and its optical reflectance depending on annealing regimes is investigated. Работа выполнена при финансовой поддержке РНФ № 17-12-01176. |
| Databáze: |
OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
|
