| Autor: |
Fernández-Quiroz, Daniel, Vásquez-García, Salomón R, Flores-Ramírez, N, Luna-Bárcenas, G, Gutiérrez-Arriaga, O |
| Jazyk: |
Spanish; Castilian |
| Rok vydání: |
2010 |
| Předmět: |
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| Zdroj: |
Revista Latinoamericana de Metalurgia y Materiales, Volume: 30, Issue: 2, Pages: 159-163, Published: DEC 2010 |
| Popis: |
El presente trabajo de investigación evalúa la incrustación del ácido carmínico (AC) en matrices de oligoestireno con terminación hidroxilo (PSOH) y de SiO2. Se describe la caracterización de películas delgadas de PSOH/AC y SiO2/AC, a través de Microscopía Electrónica de Barrido (MEB), espectroscopia infrarroja y RAMAN. Se percibe que a concentraciones inferiores al 0,2% en peso de AC se favorece de manera considerable su integración y se generan películas de coloración homogénea y transparentes. A consecuencia del bajo peso molecular de la matriz Mw=3800 la terminación en grupos hidroxilo se manifiesta como un factor importante para las interacciones polímero-AC; por su parte, el estudio por FTIR presentó corrimientos de las bandas características (3300 cm-1) respecto del PSOH. Los resultados por MEB para el sistema SiO2/AC sugieren la interacción de los grupos silanoles con la molécula de AC. This research work evaluates the embedding of carminic acid (AC) on hydroxyl-terminated oligostyrene matrixes (PSOH) and SiO2. It describes the characterization of thin films of PSOH/AC and SiO2/AC through scanning electron microscopy (SEM), Infrared and Raman spectroscopy. It shows that at concentrations below 0.2% by weight of AC it significantly favors integration and color films generated uniform and transparent. As a result of low molecular weight matrix Mw = 3800 hydroxyl terminated groups appears as an important factor for polymer-AC interactions, the study by FTIR presented shifts in the characteristic bands (3300 cm-1) for the PSOH. The results by SEM for the system SiO2/AC suggest that interactions of silanol groups with AC molecules are present. |
| Databáze: |
OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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