Anwendung von Langmuir-Blodgett-Schichten als Resist für die Niederspannungs-Elektronenstrahl-Lithografie

Autor:	Bauer, J., Schulz, Burkhard, Brehmer, Ludwig, Bötcher, M., Jagdhold, U., Höppner, K., Kulesch, A., Dietzel, Birgit
Jazyk:	němčina
Rok vydání:	1995
Předmět:	Institut für Physik und Astronomie
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______266::2686848f4879bad68b1c7a00ae36445b https://publishup.uni-potsdam.de/frontdoor/index/index/docId/27839 Zobrazit plný text záznamu