Een plasma deeltjesbron voor grote flux atomaire en andere radicalen

Autor: de Graaf, M.J., van Lierop, H.R.M., van de Sanden, M.C.M., Schram, D.C.
Přispěvatelé: Plasma & Materials Processing
Jazyk: Dutch; Flemish
Rok vydání: 1994
Zdroj: Nevac Blad, 32(4), 77-83
ISSN: 0169-9431
Databáze: OpenAIRE