Fast expanding plasma beam deposition of C and Si-thin layers
Autor: | Schram, D.C., Gielen, J.W.A.M., Buuron, A.J.M., Meeusen, G.J., Doumtchenko, S.N., Haaland, P.D., van de Sanden, M.C.M. |
---|---|
Přispěvatelé: | Plasma & Materials Processing |
Jazyk: | angličtina |
Rok vydání: | 1993 |
Zdroj: | 46th Annual Gaseous Electronics Conference |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |