Fast expanding plasma beam deposition of C and Si-thin layers

Autor: Schram, D.C., Gielen, J.W.A.M., Buuron, A.J.M., Meeusen, G.J., Doumtchenko, S.N., Haaland, P.D., van de Sanden, M.C.M.
Přispěvatelé: Plasma & Materials Processing
Jazyk: angličtina
Rok vydání: 1993
Zdroj: 46th Annual Gaseous Electronics Conference
Databáze: OpenAIRE